机译:激光锡等离子体源中的紫外线带外辐射研究
Laser Plasma Laboratory, Townes Laser Institute, College of Optics and Photonics, University of Central Florida, Orlando, FL, United States,College of Physics, Florida Polytechnic University, Lakeland, FL, United States;
Laser Plasma Laboratory, Townes Laser Institute, College of Optics and Photonics, University of Central Florida, Orlando, FL, United States;
Laser Plasma Laboratory, Townes Laser Institute, College of Optics and Photonics, University of Central Florida, Orlando, FL, United States;
Laser Plasma Laboratory, Townes Laser Institute, College of Optics and Photonics, University of Central Florida, Orlando, FL, United States;
机译:极紫外光刻光源的激光产生锡等离子体中的带外辐射和等离子体参数的表征
机译:分子吸收剂在激光产生的等离子体极端紫外线源中以10.6μm的频带外辐射缓解
机译:绝对评估用于极端紫外光刻的激光生产锡等离子体的带外辐射
机译:基于气体的光谱滤光片,用于减轻CO_2激光产生的等离子体极端紫外线源中的10.6 um辐射
机译:研究激光产生的等离子体产生的极紫外线,作为下一代光刻的来源。
机译:极紫外光刻光源的激光产生的锡等离子体的电子密度和温度的时间分辨二维分布
机译:纳米光刻极端紫外线辐射的YAG激光驱动微型锡粒子源的光谱研究
机译:利用激光等离子体辐射源技术开发辐射效应科学