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用于抑制激光维持等离子体源的VUV辐射发射的系统及方法

摘要

本发明揭示一种用于形成激光维持等离子体的系统,其包含:气体围阻元件;照明源,其经配置以产生泵激照明;及集光器元件,其经配置以将来自于泵激源的泵激照明聚焦于气体混合物的体积中以在气体混合物的体积内产生发射宽带辐射的等离子体。所述气体围阻元件可经配置以围阻包含第一气体组分及第二气体组分的气体混合物的体积。所述第二气体组分抑制离开所述气体混合物的辐射的光谱中所述宽带辐射的与所述第一气体组分相关联的一部分或与所述第一气体组分相关联的一或多个准分子的辐射中的至少一者。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-05-31

    实质审查的生效 IPC(主分类):H05G2/00 申请日:20170519

    实质审查的生效

  • 2019-02-05

    公开

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