机译:掺氧溅射沉积法在Al2O3(0001)上制备单晶外延铂膜
Osaka Univ, Inst Sci & Ind Res, Ibaraki, Osaka 5670047, Japan;
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机译:通过溅射沉积在钇稳定氧化锆(111)上制备单晶外延铂膜
机译:在Cr2O3上外延生长Al2O3单晶膜(0001)
机译:在Cr2O3上外延生长Al2O3单晶膜(0001)
机译:MOCVD沉积在α-Al2O3(0001)上的单晶SnO2:Ga薄膜的结构和光电性能
机译:脉冲反应直流磁控溅射技术制备的高介电常数薄膜的沉积和表征。
机译:外延Pd(111)/ Al2O3(0001)薄膜的超高真空直流磁控溅射沉积
机译:在MgO(111)和Al2O3(0001)上的外延CR2ALC MAX相薄膜的外延CR2ALC MAX相薄膜的脉冲激光沉积