机译:射频磁控溅射沉积ZnO薄膜:退火和气氛条件对光催化制氢的影响
Univ Autonoma Nuevo Leon, CONACYT, Fac Ingn Civil, Dept Ecomat & Energia, San Nicolas De Los Garza 66455, NL, Mexico;
Univ Guadalajara, Dept Ingn Proyectos, CUCEI, Zapopan 45100, Jalisco, Mexico;
Univ Autonoma Nuevo Leon, CONACYT, Fac Ingn Civil, Dept Ecomat & Energia, San Nicolas De Los Garza 66455, NL, Mexico;
Univ Autonoma Nuevo Leon, Fac Ingn Civil, Dept Ecomat Energia, San Nicolas De Los Garza 66455, NL, Mexico;
ZnO thin films; RF sputtering; Hydrogen production; Photocatalysis;
机译:原位退火对射频磁控溅射沉积铝掺杂ZnO薄膜性能的影响
机译:后退火对射频磁控溅射沉积在玻璃基板上的掺镓ZnO薄膜的结构和纳米力学性能的影响
机译:热退火对射频磁控溅射沉积Al掺杂ZnO薄膜结构,电学和力学性能的影响
机译:磁控溅射氧化锌膜对退火温度对ZnO薄膜的影响
机译:使用不平衡磁控溅射制造适用于薄膜晶体管的掺镓ZNO薄膜。
机译:反应磁控溅射沉积TiO2薄膜的光催化性能的途径
机译:错误:“低温缓冲液,RF功率和退火对由RF-磁控溅射生长的ZnO / Al2O3(0001)薄膜结构和光学性质的影响”J。苹果。物理。 106,023511(2009)