スパッタリング法によるLiMn_2O_4薄膜の生成と評価

摘要

The LiMn_2O_4 films for Li secondary batteries have been prepared by a RF magnetron sputtering method. In this research, we have prepared LiMn_2O_4 films under various conditions, measured the film thickness of them, identified the materials by X-ray diffraction and observed the surface by scanning electron microscopy. We evaluated the variation of film properties with varying preparation. The relationship between film thickness and deposition time was clarified. The film composition was identified through comparing film thickness by using both gravimetric and physical methods.%RFマグネトロンスパッタリング法により，Li二次電池正極用のLiMn_2O_4薄膜を生成している.本研究では，様々な条件で薄膜を生成し，薄膜の膜厚の測定，X線回折による生成物質の同定，走査電子顕微鏡による表面の観察を行い，それぞれの薄膜を比較して生成条件による薄膜の変化を評価した.その結果，Ar:O_2=3:lが，組成のずれが小さい事が分かつた.この生成条件で薄膜を生成し，充放電測定を行った結果，放電容量は小さいがリチウム二次電池の正極として機能はしていることが分かった.