机译:沉积速率的溅射过程模型
机译:溅射沉积过程中原子量,气压和靶到基板距离对沉积速率的影响
机译:直流等离子体磁控溅射沉积工艺中工艺参数对衬底加热的影响
机译:工艺参数对反应溅射HfC沉积速率和晶体结构的影响
机译:晶圆到晶圆金属溅射沉积过程通过自动沉积速率调节控制
机译:通过轧制溅射沉积工艺沉积在柔性玻璃基板上的氧化铟锌,氧化铟锡和钼薄膜的表征
机译:镧的非反应性溅射沉积和氮化镧的反应性溅射沉积过程中结构形成的原位和实时监测
机译:Ti / TiN薄膜溅射沉积过程的精确建模
机译:离子束溅射沉积高(Tc)超导薄膜的离子散射和溅射工艺研究:沉积参数的优化。