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机译:溅射沉积过程中原子量,气压和靶到基板距离对沉积速率的影响
Department of Materials and Life Science, Seikei University, 3 Kichijoji Kita, Musashino-shi, Tokyo 180-8633, Japan;
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机译:靶到衬底角度对离轴溅射沉积的影响以及YBCO薄膜近表面磁性能的EPR研究
机译:气压对溅射沉积过程中厚度均匀性和规避沉积的影响
机译:飞秒脉冲激光沉积沉积压力和靶-基片距离对ZnO生长的影响
机译:精确工艺气体供应系统对Al_2O_3原子层沉积工艺温度的影响
机译:使用原子层沉积的气体扩散壁垒:一种新的钙测试和聚合物基质效应。
机译:通过共溅射和原子层沉积制造的高灵敏度和稳定的SERS基板
机译:一种使用单步溅射沉积过程中沉积过程中靶向和衬底之间的垂直和横向距离的优化
机译:离子束溅射沉积高(Tc)超导薄膜的离子散射和溅射工艺研究:沉积参数的优化。