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Low-threshold current density InAs quantum dash lasers on InP (100) grown by molecular beam epitaxy

机译:通过分子束外延生长的InP(100)上的低阈值电流密度InAs量子破折号激光器

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摘要

Low-threshold current density InAs quantum dash lasers are demonstrated by reducing the energy inhomogeneous broadening through an optimised double-cap technique. A threshold current density for an infinite cavity length of 225 A/cm2 (ȣC;45 A/cm2 per stack) is obtained from a five-stack laser structure. The characteristic temperature above room temperature is 52K, and this relatively low value results from the carrier leakage from the dash into the barrier (waveguide) region.
机译:低阈值电流密度InAs量子破折号激光器通过优化双帽技术减少能量不均匀展宽而得到证明。从五叠层激光器结构中获得了225 A / cm2的无限腔长度的阈值电流密度(ȣC;每叠45A / cm2)。室温以上的特征温度为52K,该相对较低的值是由于载流子从仪表板泄漏到势垒(波导)区域而引起的。

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