机译:用化学溶液法在硅衬底上沉积均匀的碳膜
Daido Univ Dept Elect & Elect Engn Nagoya Aichi Japan;
Shinsei Technos Co Ltd Minato Ku Tokyo Japan;
carbon; electron irradiation; electron-beam excited plasma; solution growth;
机译:沉积温度对通过热化学气相沉积法沉积在p型硅衬底上的氮化碳膜特性的影响
机译:沉积温度对通过热化学气相沉积法沉积在p型硅衬底上的氮化碳膜特性的影响
机译:快速热化学气相沉积法在硅衬底上制备不同碳源的异质外延氮化碳氮化硅膜
机译:将锰掺杂的硅 - 碳膜沉积到硅(100)基板上的两级电化学沉积
机译:在硅和碳衬底上化学气相沉积碳化钨膜。
机译:等离子体增强原子层沉积法制备硅衬底上Al2O3膜的均匀性和钝化研究
机译:化学溶液工艺沉积均匀碳膜硅衬底