机译:具有氮化物隔离层的改进LOCOS隔离结构中的结泄漏特性
机译:后氧化冷却速率对LOCOS隔震结构中残余应力和pn结泄漏电流的影响
机译:结边缘场对氧化物隔离结构中辐射引起的泄漏电流的影响以及MOSFET沟道边缘附近的不均匀损伤
机译:结边缘场对氧化物隔离结构中辐射诱导的泄漏电流的影响
机译:氮化物覆盖了多晶硅隔离物LOCOS(NCPSL)隔离技术,用于1 GB的DRAM
机译:高级隔离结构中的形状,应力和漏电。
机译:基于阳极氧化的所有氮化铌约瑟夫森结结构的制造工艺
机译:使用多缓冲的Locos隔离最小化完全耗尽的硅式绝缘体CMOS中的NMOS边缘泄漏