机译:沟道宽度对非晶/纳米晶硅双层薄膜晶体管电学特性的影响
amorphous semiconductors; leakage currents; nanostructured materials; thin film transistors; back-channel conduction; bilayer channel devices; channel width; leakage current; nanocrystalline materials; thin-film transistors; Amorphous silicon (a-Si); channel width;
机译:沟道宽度对非晶/纳米晶硅双层薄膜晶体管电学特性的影响
机译:沟道宽度和氮化物钝化层对多晶硅薄膜晶体管电学特性的影响
机译:与氢化非晶硅薄膜晶体管相比,非晶$ hbox {InGaZnO} _ {4} $薄膜晶体管的双栅特性
机译:非晶氧化物半导体薄膜晶体管中的沟道宽度和沟道长度相关性:从器件结构的角度
机译:纳米晶硅薄膜晶体管。
机译:具有埋沟道层的非晶InGaZnO薄膜晶体管的电性能和偏压应力稳定性
机译:用TCAD研究薄膜晶体管HFO2-ZnO双层通道电气性能
机译:超柔性,不可见的薄膜晶体管,由非晶金属氧化物/聚合物沟道层混合物制成。