机译:为$> hbox {10} ^ {10} $平衡SET / RESET脉冲$ hbox {HfO} _ {2} hbox {/ Hf} $ 1T1R双极RRAM的耐力
IMEC, Leuven, Belgium;
$hbox{HfO}_{2}$; SET/RESET balance; low-resistance state (LRS)/high-resistance state (HRS) failure recovery; pulse endurance; resistive random access memory (RRAM);
机译:在
机译:辐射诱导状态变化的动态建模
机译:通过优化的封装层,为$ hbox {Ti / HfO} _ {x} $支柱RRAM提供了良好的耐久性和内存窗口,可在50纳米规模使用
机译:通过空位迁移率下降了解基于HfO2的规模化基于HfO2的1T1R RRAM的耐久性故障
机译:HtO2 / TiO2 / HfO2三层结构RRAM器件在原子层沉积制备的Pt和TiN涂层衬底上的双极电阻转换特性
机译:$$( hbox {c} _ {7} hbox {h} _ {10} hbox {n})_ {4} hbox {h} _ {2 } hbox {p} _ {2} hbox {mo} _ {5} hbox {o} _ {o} _ {2} cdot hbox {h} _ {2} hbox {o} $$$(c 7 H 10 N)4 H 2 P 2 Mo 5 O 23·H 2 O