...
机译:Pregate碳注入对高金属栅极nMOS晶体管窄宽度行为和性能的影响
Department of Electrical Engineering, IIT Gandhinagar, Gandhinagar, India;
Boron diffusion; MOS transistor; device scaling; high- $k$ metal gate (HKMG); high-k metal gate (HKMG); junction leakage; metal gate; narrow width effect (NEW); self-interstitials; universal curve; universal curve.;
机译:高
机译:高/ <金属栅SiGe晶体管的NBTI可靠性和电路性能
机译:栅极优先HKMG nMOS晶体管窄宽度效应的分析和建模
机译:NMOS窄宽度器件通过STI工艺和沟道植入优化来推动电流改善
机译:具有局部沟道和口袋注入的NMOS晶体管。
机译:电子束沉积栅极电介质对a-IGZO薄膜晶体管的沟道宽度相关性能和可靠性的比较研究
机译:电荷陷阱晶体管(CTT):嵌入式完全逻辑兼容的多时可编程非易失性的非易失性存储器,用于高-$ k $-$-$-Metal-Gate CMOS技术