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一种用于高k金属栅极NMOS晶体管的测试装置和测试方法

摘要

本发明公开了一种用于高k金属栅极NMOS晶体管的测试装置和测试方法。该测试装置包括:电阻,所述电阻连接在所述测试装置的输入端和输出端之间;以及二极管,所述二极管的正极用于与偏压源连接,所述二极管的负极连接至所述测试装置的所述输出端,其中,所述测试装置的所述输入端用于接收测试信号,且所述测试装置的所述输出端用于连接待测试的NMOS晶体管的栅极。本发明提供的NMOS晶体管的测试装置能够在PBTI测试过程中连续地、自动地对待测试的NMOS晶体管施加应力,进而可以有效地解决PBTI测试中的恢复效应问题。此外,本发明提供的NMOS晶体管的测试装置很容易被操作,并且基本不需要额外的硬件,因此成本较低。

著录项

  • 公开/公告号CN103543396A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-01-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201210243866.6

  • 发明设计人 冯军宏;甘正浩;

    申请日2012-07-13

  • 分类号G01R31/26;

  • 代理机构北京市磐华律师事务所;

  • 代理人董巍

  • 地址 201203 上海市浦东新区张江路18号

  • 入库时间 2024-02-19 21:48:50

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-03-30

    授权

    授权

  • 2014-03-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01R31/26 申请日:20120713

    实质审查的生效

  • 2014-01-29

    公开

    公开

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