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机译:低温多晶硅TFT中通过等离子体加氢降低陷阱态密度的影响
机译:氢和氘等离子体处理对多晶硅TFT性能和直流可靠性的影响比较
机译:具有新型叠栅电介质的低温多晶硅TFT的性能和可靠性以及使用PECVD一氧化二氮等离子体进行叠层优化
机译:等离子体氢化法在多晶硅TFT中两种缺陷的钝化动力学
机译:氢气和氘等离子体处理对多晶硅TFT性能和可靠性的对比研究
机译:密度梯度膜,镧系元素电化学和磁场对析氢,氧还原和镧系元素电化学的影响。
机译:通过TFT接触势垒工程技术制造高均匀度多晶硅电路
机译:在高密度非平衡等离子体中快速低温合成nc-Si:在极低的氢稀释下实现纳米结晶