机译:双色电致发光(基于硅的光源)(λ约为hbox {450} hbox {nm} $和650–700 nm)
机译:硅基光源的双色电致发光(λ≈450 nm和650–700 nm)
机译:具有1.8 nm NAOS的亚微米超低功耗TFT $ hbox {SiO} _ {2} / hbox {20} hbox {nm} $ CVD $ hbox {SiO} _ {2} $栅堆叠结构
机译:基于0.45 V MOSFET的90 nm CMOS温度传感器前端,具有未经校准的$ pm hbox {3.5} ^ {circ} hbox {C} hbox {3} sigma $来自$ -hbox {55}的相对误差^ { circ} hbox {C} $至105 $ ^ {circ} hbox {C} $
机译:在1650 nm至1700 nm光谱范围内的掺铋功率放大器
机译:开发用于可见光激光器和发光二极管的宽带隙II-VI材料。 A. ZnMgCdSe结构的双极掺杂和电致发光。 B.六角形ZnSe基结构
机译:金-姜黄素纳米结构在乳腺癌细胞系光热疗法中的应用:以650和808 nm二极管激光器为光源
机译:使用电子束蒸发的堆叠金属前体形成硫化环境对$$ hbox {Cu} _ {Cu} _ {2} _ {ZnSn} _ {4} $$ Cu 2 ZnSns 4薄膜的影响
机译:蒙特卡罗计算点型各向同性源模型大气中450,550和650 Nm波长光的散射