机译:(110)基板上局部SOI MOS器件的性能:通道方向的影响
STMicroelectronics, Crolles, France;
(110) substrate; Channel directions; epitaxy; localized silicon-on-insulator (LSOI); mobility;
机译:双轴压缩应变$ hbox {Si} _ {0.5} hbox {Ge} _ {0.5} $沿$ langle hbox {110} rangle $和$的量子阱pMOSFET的状态性能增强和与通道方向相关的性能langle hbox {100} rangle $频道方向
机译:选择沟道方向对改善(110)表面Si衬底上制造的100nm以下MOSFET的性能的影响
机译:高温退火降低(110)Si衬底表面粗糙度对(110)Si上n沟道金属氧化物半导体场效应晶体管中电子迁移率的影响
机译:新型本地化SOI MOSFET结合了SOI和块状衬底的优势,可用于大规模器件
机译:机械应力对硅和锗金属氧化物半导体器件的影响:沟道迁移率,栅极隧穿电流,阈值电压和栅极堆叠
机译:改良的伊利诺伊州方向变化测试的不对称性影响了优秀青年足球运动员的表现
机译:评论“压电偏振和非阵列重组对(0001)面部GaN-IngaN光伏器件性能”的影响“Appl。物理。吧。 96,051107(2010)