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A Designer's Guide to Subresolution Lithography: Enabling the Impossible to Get to the 14-nm Node [Tutorial]

机译:次分辨率光刻设计者指南:使得不可能到达14纳米节点[教程]

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机译:编者注:

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  • 来源
    《Design & Test,IEEE》 |2013年第3期|70-92|共23页
  • 作者

    Liebmann L.; Torres J.A.;

  • 作者单位

    International Business Machines , Hopewell Junction,|c|;

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
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