机译:低功耗高性能FinFET标准单元的设计
Peking Univ, Inst Microelect, Beijing 100871, Peoples R China;
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Peking Univ, Inst Microelect, Beijing 100871, Peoples R China;
Peking Univ, Key Lab Integrated Microsyst, Shenzhen Grad Sch, Shenzhen 518055, Peoples R China;
VLSI; FinFET; Standard cell; Stacking; Back-gate biasing; Width to length ratio;
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