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Fine Lines in High Yield (Part CLXVI)

机译:高产细线(CLXVI部分)

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摘要

The Tech Talk column, now in its 15th year, has mainly focused on circuit board fabrication issues. But over the years, related topics from first-level packaging and other interconnect technologies have also been increasingly covered. Discussing through-silicon-via (TSV) technology in this column is a bit of a stretch. But it might be of interest to look at processes such as hole formation, insulation, metallization, and etching and check for similarities and differences between TSV processing and first- and second-level packaging. Part A of this two part series is focusing on via formation, while Part B will deal with metallization processes.
机译:现在已经是第15年的Tech Talk专栏主要关注电路板制造问题。但是多年来,来自第一级封装和其他互连技术的相关主题也越来越多地被涵盖。在本专栏中讨论硅通孔(TSV)技术有点困难。但是,研究诸如孔的形成,绝缘,金属化和蚀刻之类的工艺,并检查TSV加工与第一层和第二层封装之间的异同可能是有趣的。这个由两部分组成的系列的A部分重点讨论过孔的形成,而B部分将处理金属化过程。

著录项

  • 来源
    《Circuitree》 |2009年第7期|14|共1页
  • 作者

    Karl Dietz;

  • 作者单位
  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
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