机译:极端UV,H_2O和H_2存在下转移和未转移的多层石墨烯的蚀刻过程
Univ Twente MESA Inst Nanotechnol Ind Focus Grp XUV Opt Enschede Netherlands;
Fontys Hgsk Inst Engn Eindhoven Netherlands;
Extreme Ultraviolet light; Hydrogen; Multi-layer graphene; Water; Oxidation;
机译:框架辅助H_2O电解诱导通过化学气相沉积在Cu上生长的大面积石墨烯的H_2起泡转移
机译:在H_2,CO_2和H_2O存在下从气流中低温去除H_2S的新型Fe-Mn-Zn-Ti-O混合金属氧化物
机译:非转移弧等离子体系统合成几层石墨烯
机译:HCl,H_2S和H_2O对气化过程中重金属释放和冷凝的影响
机译:通过催化燃烧的低温蚀刻在碳薄膜和多层石墨烯中形成复杂的图案。
机译:蒙脱石存在下模拟胃肠道液中环丙沙星与氧化石墨烯和还原氧化石墨烯的相互作用过程
机译:在极端UV,H2O和H2存在下转移和非转移多层石墨烯的蚀刻过程