机译:Al_2o_3靶上的激光注量在脉冲激光沉积制备的Vo_x:al_2o_3薄膜的纳米结构和形貌中的作用
Instituto de Optica, Laser Processing Group, CSIC, Serrano 121, 28006 Madrid, Spain;
pulsed laser deposition; pld; nanoparticles; vanadium oxide;
机译:脉冲激光沉积制备Al_2O_3 / ZrO_2纳米多层薄膜的微结构和力学性能
机译:脉冲激光沉积制备Al_2O_3 / ZrO_2纳米多层薄膜的微观结构和光学性能
机译:脉冲激光沉积制备Al_2O_3 / ZrO_2纳米多层薄膜的表征
机译:Al_2O_3薄膜的脉冲激光沉积-激光参数对粒子通量特性和薄膜性能的影响
机译:通过脉冲激光沉积制备的氧化物薄膜的可湿性:新见解。
机译:脉冲激光沉积制备6H-SiC(0001)衬底上VO2薄膜的增强的相变特性
机译:激光注量对Al2O3靶在脉冲激光沉积制备的VOx:Al2O3薄膜的纳米结构和形貌中的作用