退火温度对脉冲激光沉积法制备的硅基纳米硅薄膜性能影响的研究

摘要

采用脉冲激光沉积法制备了硅基纳米硅薄膜。用原子力显微镜和拉曼光谱研究了薄膜的表面结构与微观结构，经过不同温度退火处理的薄膜表面有硅晶产生，拉曼光谱显示薄膜为非晶硅与晶硅的混合相结构。薄膜的光致荧光谱显示薄膜有蓝光和红光产生，蓝光与薄膜中Si02的中性氧缺陷有关，而红光与纳米硅的量子限制效应有关。