机译:非晶硅膜的连续激光二极管辐照建模
InESS (UMR 7163 CNRS-Univ. Strasbourg), BP20 CR, 23 rue de Loess, 67037 Strasbourg Cedex 2, France;
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cw laser; amorphous silicon; annealing; thin film; comsol multiphysics;
机译:近红外半导体二极管激光辐照形成的半空中非晶硅膜的层转移和同时结晶技术及其在薄膜晶体管制造中的应用
机译:在玻璃,SiN_x和SiO_2中间层上溅射非晶硅的CW二极管激光结晶
机译:连续激光诱导EBE和PECVD沉积非晶硅薄膜的晶化
机译:半空中结构上的非晶硅膜向多孔硅的转移以及近红外半导体二极管激光辐照引起的外延生长
机译:准分子激光辐照下硅膜中现象的计算机分析模型。
机译:近红外Femtosecond脉冲的光学厚非晶硅膜的大规模和局部激光结晶
机译:35.1:用于低成本的非晶硅薄膜的蓝二极管激光退火,高级显示器的大规模制造