机译:反应性高功率脉冲磁控溅射AlTiSi多掺杂的成分调制多层类金刚石碳涂层
Guangdong Univ Technol, Sch Electromech Engn, Guangzhou 510006, Guangdong, Peoples R China|Pusan Natl Univ, Inst Mat Technol, Busan 46241, South Korea;
Guangdong Univ Technol, Sch Electromech Engn, Guangzhou 510006, Guangdong, Peoples R China;
Guangdong Univ Technol, Sch Electromech Engn, Guangzhou 510006, Guangdong, Peoples R China;
Pusan Natl Univ, Sch Mat Sci & Engn, Busan 46241, South Korea|Pusan Natl Univ, Global Frontier R&D Ctr Hybrid Interface Mat, Busan 46241, South Korea;
Guangdong Univ Technol, Sch Electromech Engn, Guangzhou 510006, Guangdong, Peoples R China;
Diamond-like carbon; Multi-doping; Modulation multilayered structure; Property;
机译:频率和C_2H_2流量对反应性大功率脉冲磁控溅射沉积AlCrSi共掺杂类金刚石碳涂层生长性能的影响
机译:脉冲功率和氩气流量对使用大功率脉冲磁控溅射技术制备的类金刚石碳涂层的机械和摩擦学性能的影响
机译:混合高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)和不平衡磁控溅射工艺沉积的TiAlCN / VCN纳米多层涂层的性能-涂层期间HiPIMS的影响
机译:非平衡磁控溅射沉积的类金刚石碳多层涂层的摩擦磨损性能
机译:用于互连金属化的高功率脉冲磁控溅射和调制脉冲功率溅射的比较。
机译:通过动态透明角度直流磁控溅射制造的富含氮的CR1-XALXN多层涂层
机译:高功率脉冲磁控溅射和不平衡磁控溅射技术相结合产生的多层氮化铬/氮化铌涂层的缺陷生长