机译:通过金属有机分解工艺生长用于涂覆导体的锰酸镧缓冲层
buffer layers; epitaxial layers; lanthanum compounds; liquid phase deposition; superconducting tapes; surface morphology; 1100 C; LMO thin films; LaMnO/sub 3/; MOD growth; buffer layers; chemical solution deposition; coated conductors; cube-textured Ni-W tape; epitaxi;
机译:用于涂层导体的锰酸镧缓冲层生长的金属有机沉积工艺的开发
机译:对“通过金属有机分解工艺生长用于涂层导体的锰酸镧缓冲层”的更正
机译:金属有机分解沉积的缓冲层和Y123涂层导体的外延形核和生长
机译:外延成核和缓冲层的生长和由金属 - 有机分解沉积的缓冲层和Y123涂覆导体
机译:通过有机金属分解过程生长用于涂覆导体的锰酸镧缓冲层。
机译:适用于YBCO涂层导体的新型厚厚致密晶格匹配单缓冲层的水溶液化学沉积:制备和表征
机译:金属有机沉积法制备YBa2Cu3O7-x涂层导体的钙钛矿结构氧化物缓冲层
机译:用于YBCO涂层导体的双轴织构金属基板上的溶液基缓冲层的外延生长