机译:通过激光干涉光刻技术对图案化的Al薄膜进行退火来制备纳米图案化的蓝宝石衬底
Shenzhen Graduate School, Harbin Institute of Technology, Shenzhen 518055, P.R. China;
Shenzhen Graduate School, Harbin Institute of Technology, Shenzhen 518055, P.R. China;
Shenzhen Graduate School, Harbin Institute of Technology, Shenzhen 518055, P.R. China;
Shenzhen Graduate School, Harbin Institute of Technology, Shenzhen 518055, P.R. China,Center for Composite Materials, Harbin Institute of Technology, Harbin 150080, P.R. China;
Shenzhen Graduate School, Harbin Institute of Technology, Shenzhen 518055, P.R. China;
Shenzhen Graduate School, Harbin Institute of Technology, Shenzhen 518055, P.R. China;
Shenzhen Graduate School, Harbin Institute of Technology, Shenzhen 518055, P.R. China;
机译:纳米图案蓝宝石衬底工艺上多曝光和多光束激光干涉光刻的通量比较
机译:通过相分离光刻技术制备晶圆级纳米图案蓝宝石衬底
机译:氢化物气相外延在具有溅射沉积退火AlN薄膜的纳米图案蓝宝石衬底上制备高质量的厚AlN层
机译:两束激光干涉光刻技术制备高均匀度的2英寸纳米图案蓝宝石衬底
机译:激光干涉光刻技术,用于大面积构图和功能纳米结构的制造
机译:通过软紫外-纳米压印光刻技术对图案化的Al薄膜进行退火处理大规模制造纳米图案化的蓝宝石衬底
机译:通过软紫外-纳米压印光刻技术对图案化的Al薄膜进行退火处理,大规模制造纳米图案化的蓝宝石衬底