Stevens Institute of Technology;
机译:通过激光干涉光刻技术对图案化的Al薄膜进行退火来制备纳米图案化的蓝宝石衬底
机译:激光干涉光刻技术制备高均匀度的4英寸纳米图形晶圆
机译:通过激光干扰光化学光刻光刻在GaAs上的周期模式制造
机译:使用直接激光干涉图案进行高速表面功能化,制造速度达到1 m〜2 / min,分辨率低于亚微米
机译:衍射光学近场激光光刻技术,用于制造3维周期性纳米结构。
机译:激光干涉光刻技术在聚二甲基硅氧烷上制备纳米结构
机译:激光干扰光刻用纳米结构对聚二甲基硅氧烷的制造
机译:利用氦镉紫外多模激光制备亚微米结构光学材料的干涉光刻性能研究