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GaN-based light emitting diodes with embedded SiO2 pillars and air gap array structures

机译:具有嵌入式SiO2柱和气隙阵列结构的GaN基发光二极管

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摘要

We demonstrated GaN-based light emitting diodes (LEDs) with different embedded heights of SiO2 pillars and air gap array structures. The air gap on top of the SiO2 pillars were also realized using the enhanced epitaxial lateral overgrowth mode. With the embedded SiO2 pillars and air gap array structures, we achieved a smaller reverse leakage current due to the lateral growth-induced crystal quality improvement. Moreover, under 20 mA current injections, the output powers were 3.04, 4.23, 4.66, and 4.44 mW for conventional LED, LEDs with embedded 200 and 500 nm height of SiO2 pillars and air gaps, 500 nm height of SiO2 pillars and air gaps, and 700 and 400 nm height of SiO2 pillars and air gaps, respectively. We found that the embedded 500 nm height SiO2 pillars and 500 nm height air gap array structures could enhance LED output power by more than 50% due to the enhanced guided-light scattering efficiency in our study.
机译:我们演示了具有不同嵌入式SiO2柱高度和气隙阵列结构的GaN基发光二极管(LED)。 SiO2柱顶部的气隙也使用增强的外延横向过生长模式实现。通过嵌入的SiO2柱和气隙阵列结构,由于横向生长引起的晶体质量提高,我们获得了较小的反向漏电流。此外,在注入20 mA电流的情况下,传统LED,具有SiO2柱高度和气隙的200和500 nm高度以及SiO2柱和气隙的高度分别为200和500 nm的嵌入式LED的输出功率分别为3.04、4.23、4.66和4.44 mW, SiO2柱高度和气隙分别为700和400 nm。我们发现,由于我们的研究提高了导光散射效率,因此嵌入式500 nm高的SiO2柱和500 nm高的气隙阵列结构可以将LED输出功率提高50%以上。

著录项

  • 来源
    《Applied Physics Letters》 |2010年第8期|P.081103-081103-3|共3页
  • 作者单位

    Institute of Electro-Optical Science and Engineering, Center for Micro/Nano Science and Technology, Advanced Optoelectronic Technology Center, National Cheng Kung University, Tainan 70101, Taiwan;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
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