机译:通过O2等离子体处理形成的具有界面氧化物层的有机电阻式存储器的电特性
Department of Materials Science and Engineering, Department of Nanobio Materials and Electronics, Gwangju Institute of Science and Technology, Gwangju 500-712, Republic of Korea;
机译:通过O_2等离子体处理形成的具有界面氧化物层的有机电阻式存储器的电特性
机译:具有界面的有机电阻式存储器的电学表征
机译:金属氧化物半导体器件界面层通过氯等离子体处理形成的高k四方HfO2
机译:O2等离子体氧化制备镍纳米晶体以制备低分子有机非易失性存储器的工艺优化
机译:界面上电极层对基于氧化铌的电阻型随机存取存储器性能的影响
机译:等离子体增强原子层沉积法原位形成SiO2中间层的HfO2 / Ge叠层的界面电和能带对准特性
机译:用界面层厚度和金属/有机界面中的界面层厚度和O2等离子体处理的界面偶极能的变化
机译:原子层沉积(aLD) - 沉积二氧化钛(TiO2)厚度对Zr40Cu35al15Ni10(ZCaN)/ TiO2 /铟(In)基电阻随机存取存储器(RRam)结构性能的影响。