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Growth, electrical rectification, and gate control in axial in situ doped p-n junction germanium nanowires

机译:轴向原位掺杂p-n结锗纳米线的生长,整流和栅极控制

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摘要

We report on vapor-liquid-solid growth and electrical properties of axial in situ doped p-n junction Ge sub-100 nm diameter nanowires. Room temperature four-point measurements show current rectification of two to three orders of magnitude depending on nanowire doping and diameter. We observe strong backgate control of reverse-bias current of up to three orders of magnitude and explain it by band-to-band tunneling modulated by the backgate-controlled electric field, as confirmed qualitatively via a quasi-three-dimensional Schrödinger–Poisson simulation.
机译:我们报告轴向原位掺杂的p-n结Ge直径小于100 nm的纳米线的汽-液-固生长和电性能。室温四点测量显示,根据纳米线掺杂和直径的不同,整流电流为两到三个数量级。我们观察到对反向偏置电流的强背栅控制能力高达三个数量级,并通过由背栅控制电场调制的带间隧穿进行解释,如通过准三维Schrödinger-Poisson模拟定性地证实的那样。

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  • 来源
    《Applied Physics Letters》 |2010年第26期|P.262102-262102-3|共3页
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  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
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