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Improved photoresponsivity of semiconducting BaSi2 epitaxial films grown on a tunnel junction for thin-film solar cells

机译:在薄膜太阳能电池的隧道结上生长的半导体BaSi2外延膜的改善的光响应性

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摘要

The highest photoresponsivity and an internal quantum efficiency exceeding 70% at 1.55 eV were achieved for 400 nm thick undoped n-type BaSi2 epitaxial layers formed on a n+-BaSi2/p+-Si tunnel junction (TJ) on Si(111). The diffusion of Sb atoms was effectively suppressed by an intermediate polycrystalline Si layer grown by solid phase epitaxy, located between the TJ and undoped BaSi2 layers.
机译:在 + -BaSi2 / p + 上形成的400 nm厚的未掺杂n型BaSi2外延层,在1.55 eV处实现了最高的光响应性和超过70%的内部量子效率。 -Si(111)上的Si隧道结(TJ)。通过固相外延生长的中间多晶硅层有效地抑制了Sb原子的扩散,该中间多晶硅层位于TJ和未掺杂的BaSi2层之间。

著录项

  • 来源
    《Applied Physics Letters》 |2012年第15期|p.1-3|共3页
  • 作者

    Du Weijie;

  • 作者单位
  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
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