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Improved photoresponsivity of semiconducting BaSi2 epitaxial films grown on a tunnel junction for thin-film solar cells

机译:在薄膜太阳能电池的隧道结上生长的半导体BaSi2外延膜的改善的光响应性

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摘要

The highest photoresponsivity and an internal quantum efficiency exceeding 70% at 1.55 eV were achieved for 400 nm thick undoped n-type BaSi2 epitaxial layers formed on a n+-BaSi2/p+-Si tunnel junction (TJ) on Si(111). The diffusion of Sb atoms was effectively suppressed by an intermediate polycrystalline Si layer grown by solid phase epitaxy, located between the TJ and undoped BaSi2 layers.
机译:对于在Si(111)上的n + -BaSi2 / p + -Si隧道结(TJ)上形成的400 nm厚的未掺杂n型BaSi2外延层,在1.55 eV处实现了最高的光响应性和超过70%的内部量子效率。通过固相外延生长在TJ和未掺杂BaSi2层之间的中间多晶Si层有效地抑制了Sb原子的扩散。

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