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Cathodoluminescence of stacking fault bound excitons for local probing of the exciton diffusion length in single GaN nanowires

机译:堆叠断层约束激子的阴极发光用于局部探测单根GaN纳米线中的激子扩散长度

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摘要

We perform correlated studies of individual GaN nanowires in scanning electron microscopy combined to low temperature cathodoluminescence, microphotoluminescence, and scanning transmission electron microscopy. We show that some nanowires exhibit well localized regions emitting light at the energy of a stacking fault bound exciton (3.42 eV) and are able to observe the presence of a single stacking fault in these regions. Precise measurements of the cathodoluminescence signal in the vicinity of the stacking fault give access to the exciton diffusion length near this location.
机译:我们对扫描电镜结合低温阴极发光,微光致发光和扫描透射电镜进行单个GaN纳米线的相关研究。我们表明,一些纳米线表现出很好的局部化区域,以堆叠断层约束激子(3.42 eV)的能量发光,并且能够观察到这些区域中存在单个堆叠断层。堆叠缺陷附近的阴极发光信号的精确测量可以访问此位置附近的激子扩散长度。

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  • 来源
    《Applied Physics Letters》 |2014年第10期|1-4|共4页
  • 作者

  • 作者单位
  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-17 13:10:06

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