机译:低压快速热化学气相沉积法制备n沟道金属氧化物半导体晶体管的迁移率
Department of Electrical and Computer Engineering, North Carolina State University, Raleigh, North Carolina 27695;
机译:具有通过低压快速热化学气相沉积形成的氮氧化物栅极电介质的n沟道和p沟道MOSFET的迁移行为
机译:低压化学气相沉积-SiN覆盖层和界面陷阱的横向分布对n沟道金属氧化物半导体场效应晶体管的热载流子应力的影响
机译:低压快速热化学气相沉积形成的具有氮氧化物栅极电介质的n沟道MOSFET的电学特性
机译:快速热处理低压金属化学气相沉积GAN对Si基材的生长和性质
机译:锗N沟道场效应晶体管通过梯度合金化学气相沉积外延形成。
机译:高迁移率和空气稳定的单层WS2场效应晶体管夹在化学气相沉积生长的六角形BN膜之间
机译:低压快速热化学气相沉积制备薄硅氮氧化物薄膜的表征