机译:金纳米管-膜光刻技术制备的高序外延铁电(Bi,La)_4Ti_3O_(12)纳米结构的大面积阵列
Max Planck Institute of Microstructure Physics, Weinberg 2, D-06120 Halle/Saale, Germany;
机译:通过脉冲激光沉积在SrTiO_3衬底上的全外延三层铁电体(Bi,La)_4Ti_3O_(12)/ Pb(Zr_(0.4)Ti_(0.6))O_3 /(Bi,La)_4Ti_3O_(12)薄膜
机译:低疲劳外延全(001)取向(Bi,La)_4Ti_3O_(12)/ Pb(Zr_(0.4)Ti_(0.6)O_3 /(Bi,La)_4Ti_3O_(12)三层薄膜的显微结构和铁电性能在(001)SrTiO_3基板上
机译:SrTiO_3(011)上全外延铁电三层(Bi,La)_4Ti_3O_(12)/ Pb(Zr_(0.4)Ti_(0.6))O_3 /(Bi,La)_4Ti_3O_(12)薄膜的形貌和微观结构
机译:烧结(BI,LA)_4TI_3O_(12)铁电陶瓷的微观结构特性及电性能
机译:基于新型纳米球面光刻技术的金纳米结构局部表面等离子体共振的生物传感。
机译:用低成本和大面积纳米光刻制造的锥形硅纳米结构的全向和宽带抗反射效果
机译:纳米球光刻制备大面积石墨烯点和反点阵列的等离子体 - 声子耦合