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机译:金属有机化学气相沉积生长具有In_xGa_(1-x)As覆盖层的InAs量子点的电反射研究
Department of Physics and Center for Nano Science and Technology, National Central University, Chung-li, 32054, Taiwan, Republic of China;
机译:金属有机化学气相沉积法生长的InAs / GaAs自组装量子点激光器-生长后退火对堆叠的InAs量子点的影响
机译:低压金属有机气相外延生长富In_xGa_(1-x)As / GaAs层中的铟掺入及其对自组装量子点生长的影响
机译:金属有机化学气相沉积生长具有GalnP盖层的InAs量子点的光致发光特性
机译:从InAS量子点激起到〜1.3驴M,通过金属有机化学气相沉积种植的Gainnas嵌入层
机译:通过等离子体增强的金属有机化学气相沉积法制得的锶钛氧化物和钡(1-x)锶钛氧化物外延薄膜。
机译:Inn量子点和纳米结构的金属化学化学气相沉积
机译:单个Inas量子点的激子发射电荷为1.3美元/μ美元 通过金属有机化学气相沉积生长
机译:嵌入In0.49(al(x)Ga(1-x))0.51p金属有机化学气相沉积Inp自组装量子点的性质。