机译:结合使用自组装分子和电子束光刻技术制造纳米级间隙
机译:使用传统的光刻技术在金属电极之间制造5 nm以下的间隙
机译:在纳米结构制造的光刻工艺中使用自组装多层:纳米间隙电完整性的初步评估
机译:用于分子电子器件的自组装纳米重组的平行制造
机译:利用光刻技术和电迁移技术制备分子晶体管集成电极
机译:纳米结构的电子束光刻技术。
机译:TEM电子束辐照通过二氧化硅覆盖的微米级Ga球的库仑爆炸制备纳米级Ga球
机译:结合使用自组装分子和电子束光刻技术制造纳米级间隙
机译:超亚微米栅极Gaas mEsFET的电子束平版印刷