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机译:有机半导体薄膜生长过程中同时进行X射线反射率和光谱学的原位测量
Institut fuer Angewandte Physik, Universitaet Tuebingen, Auf der Morgenstelle 10, Tuebingen 72076, Germany;
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ESRF, 6 Rue Jules Horowitz, Boite Postale 220, 38043 Grenoble Cedex 9, France;
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机译:有机半导体薄膜生长过程中同时进行X射线反射率和光谱学的原位测量
机译:反应溅射沉积的氮化锡薄膜的结构:结合X射线光电子能谱,原位X射线反射率和X射线吸收光谱研究
机译:有机半导体超薄膜生长的原位X射线同步加速器研究
机译:利用放牧入射X射线衍射和荧光方法在生长过程中有机薄膜的原位观察
机译:以X射线光电子谱(XPS)和光学光谱分析
机译:通过同时光学透射弛豫和阻抗谱测量氧表面交换动力学:Sr(TiFe)O3-x薄膜案例研究
机译:宽带隙半导体和有机薄膜的光学和X射线光谱
机译:用能量色散X射线反射率原位测量生长薄膜:理论和实验设计