机译:外延石墨烯和SiC薄膜的薄层电阻和电导率的测量
Institute of Microelectronics and Optoelectronics, Warsaw University of Technology, Koszykowa 75,00-662 Warsaw, Poland;
Institute of Electronic Materials Technology,Wolczynska 133, 01-919 Warsaw, Poland;
机译:外延石墨烯和SiC薄膜的薄层电阻和电导率的测量
机译:外延石墨烯和SiC薄膜的薄层电阻和电导率的测量
机译:激光诱导的大面积外延石墨烯生长,在4H-SiC上具有低薄层电阻(0001)
机译:半导体和超导薄膜的薄层电阻和电阻率测量
机译:通过电导率弛豫测量研究镧锶锰氧化物薄膜的氧表面交换性质。
机译:石墨烯上外延氧化物薄膜的生长
机译:测量外延$$ hbox {YBA} _ {2} Hbox {Cu} _ {3} hbox {o} _ {7 - { delta}} _ {7 - { delta}} $$薄膜通过光热反射率的温度范围为10k至300k