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Improvement of AIGaN/GaN/Si high electron mobility heterostructure performance by hydrogenation

机译:通过氢化改善AIGaN / GaN / Si高电子迁移率异质结构性能

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摘要

The charge transport properties of high electron mobility AIGaN/GaN/Si heterostructure are improved by its deuteration under properly designed experimental conditions; an increase of 30% on the two dimensional electron gas electrical conductivity, produced by an equivalent increase on its electron concentration, with unchanged mobility is observed. These parameters dependence with the probe current is reduced as well. The increase on the free electron concentration is explained by the release of captured electrons by the deuterium passivation of ionized acceptors. The improvements might impact not only the structure ability to handle current but other parameters as breakdown voltage and electrical noise.
机译:在适当设计的实验条件下,氘化可改善高电子迁移率AIGaN / GaN / Si异质结构的电荷传输性能。观察到二维电子气的电导率增加了30%,这是由电子浓度的等效增加引起的,并且迁移率保持不变。这些参数对探头电流的依赖性也降低了。自由电子浓度的增加可以通过离子化受体的氘钝化释放捕获的电子来解释。这些改进可能不仅会影响处理电流的结构能力,还会影响击穿电压和电噪声等其他参数。

著录项

  • 来源
    《Applied Physics Letters》 |2013年第9期|092104.1-092104.4|共4页
  • 作者单位

    Centro de Investigacion y de Estudios Avanzados del Institute Politecnico National, Dpto. Ing. Electrica, Av. Instituto Politecnico National No 2508, Mexico D.F., CP 07360, Mexico;

    Groupe d'Etudes de la Matiere Condensee, Universite de Versailles, CNRS (UMR 8635), Batiment FERMAT, 45, Avenue des Etats-Unis, 78035 Versailles, France;

    Groupe d'Etudes de la Matiere Condensee, Universite de Versailles, CNRS (UMR 8635), Batiment FERMAT, 45, Avenue des Etats-Unis, 78035 Versailles, France;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
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