机译:栅电子AIGaN / GaN和AIGaN / AIN / GaN异质结构中二维电子气的固有迁移率受到限制
Fachgebiet Festkoerperelektronik, Technische Universitaet Ilmenau, PF 100565, 98684 Ilmenau, Germany;
Fachgebiet Festkoerperelektronik, Technische Universitaet Ilmenau, PF 100565, 98684 Ilmenau, Germany;
Institut fuer Mikro-und Nanotechnologien, Technische Universitaet Ilmenau, PF 100565, 98684 Ilmenau, Germany;
Institut fuer Mikro-und Nanotechnologien, Technische Universitaet Ilmenau, PF 100565, 98684 Ilmenau, Germany;
Institut fuer Mikro-und Nanotechnologien, Technische Universitaet Ilmenau, PF 100565, 98684 Ilmenau, Germany;
Institut fuer Mikro-und Nanotechnologien, Technische Universitaet Ilmenau, PF 100565, 98684 Ilmenau, Germany;
机译:位错对AIGaN / GaN和AIGaN / AIN / GaN异质结构中电子迁移率的影响
机译:2 nm低温GaN隔离层,可改善AIGaN / lnAIN / AIN / AIN / GaN异质结构中二维电子气的传输性能
机译:SiN钝化层对AIGaN / AIN / GaN场效应晶体管中非门控二维电子气密度的影响
机译:安装在AIN基板上的193 nm紫外激光剥离AIGaN / GaN高电子迁移率晶体管的热模拟
机译:AIGaN / GaN基气体传感器中电极催化反应的电响应的表征和建模。
机译:栅极长度与漏极-源极距离之比对AlGaN / AlN / GaN异质结构场效应晶体管中电子迁移率的影响
机译:(Ni / Au)/ AlGaN / AIN / GaN异质结构中表面状态和串联电阻的温度依赖性曲线