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Realization of 1.3 μm semiconductor laser using uniform quantum dots of high density

机译:使用均匀的高密度量子点实现1.3μm半导体激光器

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摘要

We fabricated a five-layered InAs quantum dot (QD) with a high density and uniformity of 1.0 × 10~(11) cm~(-2) and 23 meV, respectively, by employing an As_2 source and a gradient composition strain reducing layer. This five-layered QD laser with a 0.5-mm cavity length and cleaved facet emits 1.3 μm wavelength light at room temperature. Moreover, we could achieve a high modal gain of 43 cm~(-1) at 1.3μm due to the high density and uniformity of the QDs.
机译:通过采用As_2源和梯度成分应变降低层,我们分别制造了密度和均匀度分别为1.0×10〜(11)cm〜(-2)和23 meV的五层InAs量子点(QD)。 。这种五层QD激光器的腔长为0.5毫米,刻面开裂,在室温下发出1.3μm波长的光。此外,由于量子点的高密度和均匀性,在1.3μm处可以获得43 cm〜(-1)的高模态增益。

著录项

  • 来源
    《AIST today》 |2006年第20期|18-18|共1页
  • 作者

    Takeru Amano;

  • 作者单位

    Photonics Research Institute;

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-17 13:55:32

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