maskless lithography; chemical vapor deposition; ultrahard materials; microstructures; nanoindentation; MEMS;
机译:使用离子注入,硅沉积和选择性硅刻蚀对硅进行逐层3D图案化的工艺注意事项
机译:通过离子注入,硅沉积和选择性硅刻蚀对硅进行3D自由形图案化
机译:沉积气氛对激光化学气相沉积制备碳化硅膜相组成和微观结构的影响
机译:通过选择性地在硅微结构上沉积多壁碳纳米管来实现场发射增强
机译:选择性区域激光沉积(SALD)碳化硅与碳化硅填料的连接。
机译:选择性激光熔化和激光金属沉积生产的Scalmalloy®的微观结构和力学性能的比较
机译:通过离子注入,硅沉积和选择性硅刻蚀对硅进行3D自由形图案化