首页> 美国卫生研究院文献>ACS AuthorChoice >Abrupt Schottky Junctions in Al/Ge Nanowire Heterostructures
【2h】

Abrupt Schottky Junctions in Al/Ge Nanowire Heterostructures

机译:Al / Ge纳米线异质结构中的突然肖特基结

代理获取
本网站仅为用户提供外文OA文献查询和代理获取服务,本网站没有原文。下单后我们将采用程序或人工为您竭诚获取高质量的原文,但由于OA文献来源多样且变更频繁,仍可能出现获取不到、文献不完整或与标题不符等情况,如果获取不到我们将提供退款服务。请知悉。

摘要

In this Letter we report on the exploration of axial metal/semiconductor (Al/Ge) nanowire heterostructures with abrupt interfaces. The formation process is enabled by a thermal induced exchange reaction between the vapor–liquid–solid grown Ge nanowire and Al contact pads due to the substantially different diffusion behavior of Ge in Al and vice versa. Temperature-dependent I–V measurements revealed the metallic properties of the crystalline Al nanowire segments with a maximum current carrying capacity of about 0.8 MA/cm2. Transmission electron microscopy (TEM) characterization has confirmed both the composition and crystalline nature of the pure Al nanowire segments. A very sharp interface between the ⟨111⟩ oriented Ge nanowire and the reacted Al part was observed with a Schottky barrier height of 361 meV. To demonstrate the potential of this approach, a monolithic Al/Ge/Al heterostructure was used to fabricate a novel impact ionization device.
机译:在这封信中,我们报告了具有突然界面的轴向金属/半导体(Al / Ge)纳米线异质结构的探索。由于Ge在Al中的扩散行为截然不同,因此在汽-液-固生长的Ge纳米线和Al接触垫之间发生热诱导交换反应,从而使形成过程成为可能。随温度变化的伏安测量显示出最大载流能力约为0.8 MA / cm 2 的晶体Al纳米线段的金属特性。透射电子显微镜(TEM)的特性已证实纯Al纳米线片段的组成和晶体性质。观察到⟨111⟩取向的Ge纳米线与反应的Al部分之间的非常尖锐的界面,肖特基势垒高度为361meV。为了证明这种方法的潜力,使用了整体式Al / Ge / Al异质结构来制造新型的碰撞电离装置。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
代理获取

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号