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李戈扬; 虞晓江; 吴桢干; 许俊华; 顾明元;
上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室;
氮化钽; 氮化铌; TaN/NbN纳米多层膜; 超硬效应; 耐磨性; 微结构; 力学性能; 金属材料; 表面处理; 陶瓷薄膜;
机译:反应磁控溅射沉积δ-NbN/ SiNx和δ'-NbN/ SiNx纳米多层膜的结构和力学性能
机译:TaN / a-CN _x多层膜的结构和力学性能
机译:PVD涂层制备的TiN / NbN多层膜的力学性能
机译:反应性溅射沉积TiN / TaN多层膜的结构和力学性能
机译:铝/铝-金属多层膜的微观结构和力学性能:纳米尺度的变形机制。
机译:期望的调制周期和比例下的纳米级ReB2 / TaN多层膜的界面模型和表征:第一性原理计算和实验研究
机译:通过在TaN薄膜桥上集成B / Ti纳米多层膜的高能点火器的特性
机译:寻找铁磁/超导多层膜中的耦合:Fe(sub 4)N / NbN
机译:使用光交联层组装制备纳米复合多层膜的方法和由此制备的纳米复合多层膜以及包含该复合膜的电子器件
机译:通过使用含磷酸盐基团的倍半硅氧烷来改进质子导电性和力学性能的质子传导聚合物纳米复合膜,其制备方法以及使用相同的膜电极组装体
机译:使用多孔多层薄金属膜的硅纳米线阵列的制造方法,该多孔多层金属膜能够实现不受掺杂浓度和类型限制的硅纳米线阵列
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