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陶波; 王琦;
浙江大学化学系;
铜薄膜; 化学气相沉积(CVD); 前趋物;
机译:通过气溶胶辅助化学气相沉积铜(I)铜(I)硫氰酸酯薄膜的低温可伸缩沉积
机译:六氟乙酰丙酮酸铜乙烯基环己烷作为液相前驱体用于铜薄膜的低温化学气相沉积
机译:原位拉曼光谱和X射线衍射研究金属有机化学气相沉积法沉积锶铜氧化物薄膜导致SrCu_2O_2相的结构转变
机译:新型有机金属铜(Ⅱ)前驱体的化学气相沉积法制备铜薄膜
机译:通过化学气相沉积技术沉积的氮化钽薄膜的铜扩散阻挡性能。
机译:常压等离子体化学气相沉积法生长掺锌铜的抗菌氧化硅薄膜
机译:低温下类二氧化硅薄膜的等离子体辅助化学气相沉积的优化低温下类石英薄膜的等离子体辅助化学气相沉积的优化
机译:高温超导薄膜的金属有机化学气相沉积研究进展
机译:贵金属化合物薄膜和贵金属薄膜的化学气相沉积方法以及制备化学气相沉积的有机金属化合物和化学气相沉积的金属有机化合物的方法
机译:用于化学气相沉积的有机金属化合物,用于化学气相沉积的有机金属化合物的制备方法,新型金属薄膜和用于新型金属复合薄膜的化学气相沉积的方法
机译:化学气相沉积设备,化学气相沉积设备的指南成员以及使用化学气相沉积设备制造薄膜的方法
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