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声明
第一章 绪论
1.1 前言
1.2 CVD对前驱物的要求
1.3 一价铜前驱物的合成与发展
1.3.1 CuXn型前驱物
1.3.2 XCuLn型前驱物
1.3.3多核一价铜前驱物
1.3.4其他一价铜前驱物
1.4本论文的工作
第二章 一价铜CVD前驱物的合成
2.1 CVD前驱物合成装置
2.1.1 无水无氧操作系统
2.1.2 溶剂预处理系统
2.1.3 CVD前驱物合成系统
2.2 CVD前驱物合成实验药品与材料
2.3 CVD前驱物的合成
2.3.1 CVD前驱物合成原理
2.3.2 CVD前驱物合成反应
2.3.3 CVD前驱物合成步骤框图
2.3.4 一价铜前驱物的合成
第三章 一价铜CVD前驱物的表征与分析
3.1 分析仪器
3.2 CVD前驱物的表征与分析
3.2.1 (etac)Cu(I)(P(O-nBt)3)2的表征与分析
3.2.2 (etac)Cu(I)(P(OCH(CH3)2)3)2的表征与分析
3.2.3 (mtac)Cu(I)(P(O-nBt)3)2的表征与分析
3.2.4 (mtac)Cu(I)(P(OCH(CH3)2)3)2的表征与分析
3.2.5 (btac)Cu(I)(P(O-nBt)3)2的表征与分析
3.2.6 (btac)Cu(I)(P(OCH(CH3)2)3)2的表征与分析
3.3本章小结
第四章 铜薄膜化学气相沉积
4.1 实验准备
4.1.1实验药品与材料
4.1.2实验仪器
4.1.3分析仪器
4.2 实验步骤
4.2.1基材处理
4.2.2 CVD铜薄膜操作步骤
4.2.3反应条件
4.3结果与讨论
4.3.1 P(O-nBt)3配位的前驱物化学气相沉积
4.3.2 P(OCH(CH3)2)3配位的前驱物化学气相沉积
4.3.3沉积铜薄膜的特点
4.4本章小结
第五章总结与展望
参考文献
附录一:一价铜前驱物配体缩写对照表
附录二:无水无氧操作技术
硕士期间成果
致谢