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田学红; 刘刚; 田扬超; 张新夷;
中国科学技术大学国家同步辐射实验室;
复旦大学同步辐射研究中心;
SU-8; 非涅耳衍射; 紫外光刻; MEMS; 光刻胶; 光刻精度;
机译:二维动态CA方法用于光刻胶刻蚀模拟的改进及其在SU-8光刻胶深紫外光刻模拟中的应用
机译:SU-8厚光刻胶紫外光刻工艺的综合模拟
机译:SU-8抗蚀剂在365 nm光源下模拟深紫外光刻
机译:SU-8光刻胶深紫外光刻发展过程中的溶胀效应:理论研究,模拟与验证
机译:使用掩埋的光刻胶掩模方法制造多层,独立式,SU-8结构
机译:SU-8紫外光刻技术对预对准光纤束耦合器的微细加工
机译:采用sU-8光刻胶的220-GHz片状光束放大器光栅的UV-LIGa微加工
机译:光刻模拟设备,以及光刻模拟程序和使用该光刻模拟程序的半导体器件设计制造方法
机译:用于极紫外光刻的反射装置,应用于其的极紫外光刻掩模,投影光学系统和光刻设备
机译:用于例如模拟航空图像的方法在极端紫外线光刻中测试反射掩模,包括从数据集中确定航空影像,并根据瞳孔平面的强度来更改一个数据集的分辨率
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