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晏继文; 张光华; 冯意炯; 奚中和;
北京大学无线电系;
OES; 空间分布; 硅烷; 输运性质;
机译:激发频率对硅烷等离子体中光发射强度与沉积速率之间关系的依赖性
机译:马来酸酐和乙烯基三甲氧基硅烷的大气压脉冲等离子体共聚:电参数对涂层化学,形态和沉积速率的影响
机译:在MPCVD期间高沉积速率在高沉积速率下电场和放电等离子体对电场和放电等离子体的影响
机译:电子密度,光发射光谱和氟碳沉积速率在高密度电感耦合C_4F_8等离子体中测量
机译:离子注入的硅纳米晶体通过光电的等离子体和非等离子体效应产生的宽带光发射。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:RF和DC硅烷排放中自由基的性质和分布;对A-Si的沉积速率和物理性质的影响:h
机译:硅烷中射频(射频)辉光放电中硅烯基和甲硅烷基自由基之间的平衡:对α-si:H的沉积速率的影响
机译:移动金属产品涂层检测方法,涉及分析等离子体的光发射,测量光谱线的强度以及分析等离子体的光发射,其中在金属产品的两侧产生等离子体
机译:一种用于增加等离子体放电空间和等离子体室中的沉积速率的方法。
机译:增加沉积速率的方法,降低等离子体放电室中粉尘密度的方法以及等离子体室
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